由上至下： 共有峰筛选: 所有变量； 谱图模拟方法：高斯曲线模拟；
共有峰筛选: 50%； 谱图模拟方法：平均色谱图；
共有峰筛选: 50%； 谱图模拟方法：高斯曲线模拟；
共有峰筛选: 100%； 谱图模拟方法：高斯曲线模拟；
共有峰筛选: 50%； 谱图模拟方法：平均色谱图；
共有峰筛选: 50%； 谱图模拟方法：高斯曲线模拟；
共有峰筛选: 100%； 谱图模拟方法：高斯曲线模拟；
ChemPattern为共有模式制定提供了大量生成参数，并通过结合色谱峰保留时间校正以及多组分同步含量测定功能，使得共有模式可在定量模式下全自动生成。生成过程全部基于统计学原理，从而排除了人为选择时的主观因素。
该功能可由化学计量学与指纹图谱分析共有模式，或分析菜单共有模式进行访问，快捷键为Ctrl+Shift+C。有关共有模式视图中的图谱显示窗口和列表栏的操作可参考3.3.1样品管理及基础操作。共有模式的属性栏包含以下项目和内容：
| 项目名称 | 说明 | 选项 |
|---|---|---|
| 共有模式生成 | 设置共有模式的生成参数 | |
| 共有峰来源 | 选择共有峰的计算数值来源。含量部分详见3.8多组分含量测定。 | 峰面积、峰高、含量 |
| 共有峰统计值 | 选择计算共有峰值的统计计算方法。选择中位数时，共有峰筛选频率必须≥50%。 | 均数、中位数 |
| 共有峰筛选 | 选择一个共有峰的出现频率阈值。只有在所有代表性样品中的出现频率高于阈值的自变量才作为共有峰入选 | 所有变量、25% (低四分位数)、50% (中位数)、75% (高四分位数)、100% |
| 最小共有峰值（%） | 设置入选共有峰与共有模式中最强峰的最小百分比值，从而排除次要峰 | 取值范围：0～100 |
| 谱图模拟方法 | 选择高斯曲线拟合还是代表性图谱平均值作为共有模式的模拟轮廓曲线。 | 高斯曲线模拟、平均色谱图 |
| 数据预处理 | 选择分析前对数据进行预处理的方法，从而规范化数据并提高分析结果质量。 | 无：针对观测：标准化、均一化、自动缩放、中心化。针对变量：标准化、均一化、自动缩放、中心化。全局：二进制化、自然对数变换、平方根变换 |
| 共有模式信息 | 显示共有模式的生成统计信息 | |
| 代表性样品数 | 显示参与共有模式生成的总样品数，以及所占总样品比例 | |
| 共有峰数 | 显示未经共有峰筛选前的匹配峰总数, 筛选后的共有峰数，以及手动匹配/对照品个数。 |
共有模式列表栏包含以下项目和内容：
| 名称 | 说明 |
|---|---|
| 共有峰序号 | 共有峰唯一编号 |
| 保留时间 tR | 共有峰保留时间，以标记成分的保留时间为准。如果标记成分不存在，则以首次出现共有峰的代表性样品为准。 |
| 保留时间RSD | 相同共有峰在各个代表性样品中保留时间的相对标准偏差 |
| 相对保留时间RtR | 计算相对保留时间所需的内标参照峰可在化合物定义或化学对照品定义列表栏内设定 |
| 峰特征值 C | 显示共有峰的特征值（可为峰面积、峰高或含量） |
| 峰特征值RSD | 显示共有峰的特征值的相对标准偏差 |
| 峰特征值% | 显示共有峰的特征值的所占百分比 |
| 频率f | 该共有峰在所有代表性样品中的检出率（出现频率），值在0-1之间 |
| 权重W | 该共有峰在参与计算时的加权，从而人为调节该组分的重要程度。默认值为1.0，即同等重要。可在 保留时间校正化合物定义或 对照品与回归方程化学对照品定义的列表栏设定。 |
| 组分名称 | 共有峰所归属的标记成分的名称 |
对上述指纹图谱生成变量中的选项说明如下：